聚焦薄膜測(cè)量
，馬爾文帕納科X射線分析技術(shù)薈萃

2022-10-17 15:39:56 admin

薄膜

，通常是指形成于基底之上、厚度在一微米或幾微米以下的固態(tài)材料

。薄膜材料廣泛應(yīng)用于不同的工業(yè)領(lǐng)域

，譬如半導(dǎo)體、光學(xué)器件

、汽車

、新能源等諸多行業(yè)。沉積工藝是決定薄膜成分和結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵

，最終影響薄膜的物性

；對(duì)薄膜成分、厚度

、微結(jié)構(gòu)

、取向等關(guān)鍵參數(shù)進(jìn)行測(cè)量可以為薄膜沉積工藝的調(diào)整和優(yōu)化提供依據(jù)，改善薄膜材料性能

。

馬爾文帕納科的X射線衍射（XRD）和X射線熒光光譜（XRF）分析設(shè)備

，可以對(duì)不同類型的薄膜材料進(jìn)行表征

。

從1954年飛利浦第一臺(tái)用于薄膜分析的X射線衍射儀誕生以來(lái)，馬爾文帕納科X射線分析技術(shù)應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜材料測(cè)量已有非常悠久的歷史

。無(wú)論是針對(duì)單晶外延

、多晶薄膜、非晶薄膜都有對(duì)應(yīng)的專業(yè)分析解決方案

，利用對(duì)稱衍射

、非對(duì)稱衍射、反射率

、搖擺曲線

、雙周掃描、倒易空間Mapping和正空間Mapping等測(cè)量方式

，表征薄膜材料的厚度和超晶格周期

、應(yīng)力和弛豫；失配和成分

；曲率半徑

；襯底材料取向；組分分析等等

。馬爾文帕納科新推出的衍射超凈間系統(tǒng)套件

，搭配自動(dòng)加載裝置，可在1分鐘內(nèi)評(píng)估面內(nèi)缺陷

，最大程度降低生產(chǎn)成本

，提高檢測(cè)效率。

此外

，馬爾文帕納科全自動(dòng)XRF晶圓分析儀

，可以快速分析晶片或器件多層膜的成分及厚度，具有非常穩(wěn)健的工作方式且符合超凈間環(huán)境要求

，在晶圓廠圓晶質(zhì)量在線控制的環(huán)節(jié)倍受認(rèn)可

。

基于此，馬爾文帕納科聯(lián)合儀器信息網(wǎng)將于10月14日舉辦“X射線分析技術(shù)應(yīng)用于薄膜測(cè)量”主題網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)

?div id="jpandex" class="focus-wrap mb20 cf">；顒?dòng)將特邀同濟(jì)大學(xué)物理科學(xué)與工程學(xué)院朱京濤教授，馬爾文帕納科亞太區(qū)半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)理鐘明光先生

，以及馬爾文帕納科XRD產(chǎn)品經(jīng)理王林博士

，XRF產(chǎn)品經(jīng)理熊佳星先生做薄膜測(cè)量應(yīng)用的相關(guān)報(bào)告，內(nèi)容涉及多晶薄膜反射

、織構(gòu)

、應(yīng)力；半導(dǎo)體薄膜測(cè)量以及涂層

、鍍層等金屬薄膜的成分及結(jié)構(gòu)鑒定

。還將安排幾款用于薄膜測(cè)量的X射線分析儀器的視頻演示

。期待與涉及薄膜測(cè)量方向的廣大科研工作者和企業(yè)研發(fā)、質(zhì)控專業(yè)人員共同探討薄膜測(cè)量領(lǐng)域X射線分析技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用

。

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